以下是我们为您介绍的MKS臭氧发生器,美国MKS臭氧发生器相关信息，我们保证原装正品，货期快，型号全，欢迎您来电详询！

1、美国MKS臭氧发生器
MKS提供各种臭氧发生器和模块化输送系统，可产生超纯、可靠的臭氧气体。在洁净的半导体环境中，臭氧与各种前体气体发生反应，生成Al2O3、ZrO2、HfO2和La2O3金属氧化物，从而实现原子层沉积(ALD)和蚀刻(ALE)等薄膜沉积工艺。MKS的发生器使用6级气体，能够产生更高的薄膜密度，从而提高产品产量。光伏和显示器制造利用半导体最佳实践，并利用臭氧来增强薄膜屏障，从而提高产品性能和可靠性。SEMOZON®臭氧气体发生器和子系统是紧凑型、高浓度、超洁净臭氧气体发生的行业标准。应用包括原子层沉积(ALD)、原子层蚀刻(ALE)、化学气相沉积(CVD)和湿法清洗。
​
2、美国MKS臭氧发生器
SEMOZON®AX8415是MKS开发的最具创新性和多功能的臭氧发生器。该发生器采用新颖的架构和专利电池设计，可产生超洁净、高浓度、高流量的臭氧，将氧气转化为大于400 g/Nm3的高浓度臭氧，用于半导体、平板显示器和光伏行业的前沿应用。

3、美国MKS臭氧发生器特点
①5°C 2.5 slm时臭氧浓度高达425 g/Nm3或27.1 wt%
②氧气流量从2.5 slm到50 slm，可实现工艺灵活性
③专利电池设计可产生高浓度臭氧
④添加或不添加氮气均可操作
⑤闭环操作可实现更严格的过程控制
⑥直接替代MKS SEMOZON AX8407臭氧发生器

4、美国MKS臭氧发生器特征
（1）最高浓度的超洁净臭氧
SEMOZON AX8415的设计技术是该发生器多功能性的基础。电子工业将臭氧用于CVD和ALD薄膜的形成、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。AX8415能够在添加或不添加氮气作为掺杂气体的情况下产生最高浓度的超洁净臭氧，从而支持所有这些应用。如果特定应用需要，去除臭氧形成中使用的微量氮气可以消除氮氧化物化合物的形成。

（2）直接替换SEMOZON AX8407
SEMOZON AX8415的独特功能和优势使其成为行业领先的SEMOZON AX8407臭氧发生器（AX8415的先驱）的直接替代品。AX8415上产生和控制臭氧生成所需的外形尺寸和连接与AX8407完全相同。AX8415的卓越性能可立即适用于所有符合AX8407臭氧发生器资格的应用。

5、美国MKS臭氧发生器规格
①臭氧产量：高达425 g/Nm 3
②流量：2.5-50标准流明
③原料气：氧气：6级或更好的O2；氮气（可选）：100 ppm 5级或更好的N2
④环境温度：10-40°C(50-104°F)
⑤标称电池压力（交付）：15-45 psig(100-310 kPa)
⑥压力：将过程压力保持在20-50 psig
⑦控制接口：前面板控制和远程操作
⑧冷却水温度：5-25°C(41-77°F)
⑨冷却水过滤：100微米
⑩冷却水质：电阻率≥50kΩ/cm
⑪最小水流量：9.4升/分钟（2.5加仑/分钟）
⑫电压要求：208 VAC(±10%)3Ø和GND，无中性线
⑬频率：50/60赫兹

郑重声明：内容来源于网络收集整理，不一定正确，仅作参考;本站仅仅是为了更好地宣传推广欧美工控备件等产品信息，方便用户了解这些欧美工业备品备件，我司非以上品牌的官方授权代理，品牌、商标所有权、型号解释权都归原厂商所有。如有问题，请联系我们。
_______________________________________________________________________________

以上就是我们为您介绍的MKS臭氧发生器,美国MKS臭氧发生器，美国MKS臭氧发生器类型多样，型号齐全，如您需要购买备件，可以来找我们，我们一定给您提供最大的优惠。欢迎您随时来咨询！