BENEQ是ALD之家。他们提供两大产品：ALD解决方案和Lumineq显示屏。BENEQ原子层沉积ALD解决方案提高了功率器件和光学器件的性能和耐用性。BENEQ气溶胶设备光学镀膜 、 原子层沉积、BENEQ气溶胶镀膜、 装饰性镀膜 、BENEQ透明导电氧化物、 颗粒镀膜、BENEQ 生物相容性镀膜等都是他们的主要产品。今天小编将为大家分享有关BENEQ,芬兰BENEQ气溶胶设备,BENEQ原子层沉积的内容：

一、BENEQ公司简介：
BENEQ是ALD之家。他们提供两大产品：ALD解决方案和Lumineq显示屏。BENEQ原子层沉积ALD解决方案提高了功率器件和光学器件的性能和耐用性。在新兴的半导体，物联网，5G和汽车应用中，它们具有无形的优势。BENEQ Lumineq®显示屏是全球透明度最高的显示屏。与其他任何类型的显示器相比，Lumineq加固显示屏更适用于严苛的极端环境。全球百强企业中，有27家都是BENEQ的老客户。

二、BENEQ公司产品简介：
1.BENEQ气溶胶设备：
①拥有紧凑型结构和优质的ALD反应器。采用人体工程学设计，提高设备性能和操作效率。模块化设计便于快速升级和维护。标准热ALD设定。
②因客户配置和附件而异，定制属于您的R2，4个液体源。使用标准50毫升世伟洛克容器。单晶圆反应腔。
③备件和消耗品套件。包装以及CIP运输至机场。设备调试和启动（包括现场3天）。

2.BENEQ生物相容性镀膜：
①BENEQ TFS 200是一款适用于科学研究和企业研发的最灵活的ALD平台。BENEQ TFS 200是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至最低而特别设计的。各种配置选项和升级意味着BENEQ TFS 200将与您一起成长，以满足高标准的研发需求。
②BENEQ TFS 200不仅可以在晶圆，平面物体上镀膜，还适用于粉末，颗粒，多孔的基底材料，或是有高深径比的3D物体内沉积高保形薄膜。
③直接和远程等离子体沉积(PEALD)可作为BENEQ TFS 200的标准选项。等离子体是电容性耦合(CCP)，这是当今的工业标准。等离子体选件可为直径200毫米的基板（面朝上或面朝下）提供直接和远程等离子体增强沉积(PEALD)。

3.BENEQ装饰性镀膜：
①BENEQ Transform™是功率器件、MEMS和传感器、RF、LED、光学和高级封装应用的一站式ALD解决方案。其采用全新的集群设计，即在一个全自动平台上将热法和等离子ALD与单晶圆和批量工艺相结合，从而为客户提供了卓越的灵活性。它专有的预热模块可减少数小时的等待时间，并将生产量提升到一个全新的水平：热模式下15 wph 50 nm Al2O3。
②该产品还新增了多达2个热处理或等离子体模块，从而进一步提高产能。BENEQ Transform™Lite和体型更大的Transform™一样，可提供热法和等离子ALD工艺及预热模块。从研发、原型设计到批量生产，BENEQ Transform™Lite在整个工艺中都能发挥有效的作用。它能进行表面预处理，在3至8英寸的晶圆基底材料上进行镀膜。如今通过Transform™Lite，客户可以选择在多个设备和应用程序上操作不同的ALD工艺。而所有这一切都是在一个平台上完成的！
③真正的多功能性，热法和等离子ALD。单晶圆和批量工艺。最广泛的高性能氧化物和氮化物。这些组合最大限度地提高了批量生产的灵活选择。

4.BENEQ原子层沉积：
①适用于工业OLED封装的ALD系统，BENEQ WCS 600是用于研发和试生产的卷对卷原子层沉积系统，特别适用于AMOLED显示屏、OLED照明、柔性光伏电池、电池和柔性玻璃镀膜的应用。将高品质原子层沉积膜连续沉积到柔性基底卷上，如聚合物、金属或纸。
②对敏感基底的加工温度较低（<150℃），具有广泛的工作压力范围，适用于线路集成。系统沉积速度具有高度拓展性，可达到10米/分钟。

三、BENEQ公司产品型号：
①BENEQ M2048-B-SP
②BENEQ T560-521-312
③BENEQ AM206-12
④BENEQ GS65.40-40
⑤BENEQ 03193-4712040

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