Purion系列离子注入机是与客户合作开发的，旨在应对当前和未来10nm或更低晶圆厂工艺的挑战。Purion 平台建立在 21 世纪的架构之上，采用独特的使能技术设计，可提供最高的纯度、精度和生产率，以及最低的拥有成本。

每个晶圆厂都是独一无二的。这就是为什么Axcelis花时间了解您的工艺流程，并根据您的特定需求定制离子注入解决方案。Axcelis优化相应的平台，以满足一系列应用的特殊要求——从存储器到高级逻辑，从图像传感器到功率器件。Axcelis重大的研发投资创造了一套基于现代架构的不断扩展的离子注入平台，并针对当今新兴的半导体应用进行了优化。Axcelis继续投资于下一代技术，以使Axcelis客户在创新曲线上保持领先地位。

Axcelis始终将环境，社会和治理政策和目标整合到Axcelis的业务运营中。与所有管理实践一样，Axcelis的政策和目标已经并将继续随着Axcelis的业务和全球优先事项而发展。

Axcelis欢迎投资者关注Axcelis的环境，社会和治理政策和目标，Axcelis致力于与投资者分享有关这些主题的适当、相关和重要数据。

与Axcelis业务的各个方面一样，ESG 风险和改进机会在Axcelis的企业风险管理系统和战略规划流程中得到解决，这些流程由Axcelis的董事会监督。Axcelis认为，鉴于ESG主题对Axcelis业务的重要性，整个董事会都应该监督这些主题。

为了满足市场对极端图像质量和分辨率的需求，图像传感器制造商必须生产兼具高像素密度和极低金属污染的芯片。为了实现这种平衡，同时最大限度地提高产量和盈利能力，制造商面临着一些困难的技术挑战。

晶圆厂面临的主要挑战：

实现红光和近红外光子的高量子效率

最大限度地减少暗电流和白像素缺陷

减小像素大小

Axcelis解决方案：

Axcelis通过业界最先进的离子注入解决方案帮助图像传感器芯片制造商应对这些挑战。Axcelis的 Purion 平台提供：

更高的光束能量 — 高达 15 MeV

使用Axcelis独有的矢量控制系统进行精确的角度控制

无与伦比的低金属污染水平 

Axcelis的 Purion XE 系列离子注入机已迅速成为当今要求苛刻的高能配方的行业标准。他们独特的射频直线加速器（LINAC）技术提供比竞争平台更高的可靠性，更宽的能量范围和更高的生产率，并具有卓越的金属污染控制。

纯度

Axcelis基于 RF LINAC 的光束线中的多重过滤技术可过滤掉其他设计遗漏的杂质，从而实现业界最低的金属和颗粒污染水平。       

精度

专有的 VectorTM 控制系统独特地提供原位水平和垂直测量和校正，可实现零度植入。                   

生产力

借助Axcelis的高速 Purion 终端站和基于 RF LINAC 的光束线，可实现高达 500 WPH 的吞吐量，在最广泛的能量范围内（从 40keV 到 15MeV）提供业界最高的波束电流。              

优化您的能量水平

Purion 高能量系列包括各种植入器，允许您为您的应用选择最佳能量水平：

Purion XE — 12 级直线加速器，能量高达 4.5 MeV

Purion EXE — 12 级 LINAC，能量高于 Purion XE，高达 5.25 MeV

Purion VXE — 带能量增强器的 14 级 LINAC 可提供高达 8 MeV 的能量

Purion XEmax — 双直线加速器设计，采用专利升压技术TM，可提供高达 15 MeV 的最高能量

Purion XE Power 系列—XE 和 EXE 型号专为大批量功率器件铝注入、150mm SiC 晶圆处理或 200mm 薄硅晶圆处理而设计。

 GSD平台是制造和支持时间最长的批量离子注入机的行业基准。Ovation 是最新的批量配置，旨在与现有的 Axcelis 批量植入机机群无缝集成，同时通过更新的组件提供渐进的性能改进，以实现长期可持续性。Ovation 将 GSD 系列平台的生产相关性扩展到未来，同时提供最高的可靠性、可维护性和最低的运营成本。   

100%向前推进可持续性

新的 Ovation 配置是行业用于扩容及其他领域的记录工具。创新的改进，如虚拟机 RAID 工作站和高性能终端站，结合主动的持续改进路线图，能够以最快的速度、最具成本效益的方式扩展、优化和维持平台功能。    

提高可靠性

该系统可减少 95% 的真空晶圆处理误处理和晶圆破损。Ovation 平台提供持续的可靠性计划和强大的软件支持，以确保最高水平的工具正常运行时间。      

运营成本

创新的氢气发生器、源套管屏蔽和长寿命提取电极的组合可将源运营成本降低多达 40%，尤其是氟化物质。  

优化您的批处理过程

Ovation 介绍包括各种植入器，可让您为批量植入过程选择最佳能量范围。

GSD/E2 鼓式 – 适用于一般大电流应用。

GSD/HE 欢呼 – 10 级直线加速器，能量高达 3 MeV

GSD/VHE 欢呼 – 14 级直线加速器，能量高达 4.9 MeV