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Talint EDU是X射线Talbot Lau干涉仪的一种巧妙简化形式，包括所有必要的硬件，以正确设置和微调干涉仪，并应用相位步进程序，以获得三种成像模式：吸收、相位对比度和暗场对比度。

硬件的设计使得，在按照我们的说明组装（预装）套件后，莫尔条纹将很容易在您的探测器上看到。莫尔条纹图案的进一步微调可以通过使用G1和G2支架中的微米螺钉使光栅绕光轴进行角旋转，以直接的方式进行。

性能特点
由基板定义，基板是M6的试验板，间距为25mm 光栅是使用X射线LIGA技术制造的，该技术确保了高精度和高的高宽比（纵横比） 通过定位销固定；对称设置 两个光栅都可以通过调节测微螺钉绕光轴旋转 包含控制器

干涉仪的微调：仅调整G1和G2绕光轴的旋转角度

样品放置：简单的旋转台，可在光轴内外摆动样品

相位步进：闭环压电级。30nm分辨率

边缘能见度：通常 15%

G0和G2的占空比：0.55

G0和G2的基板：400 m石墨

G1占空比：0.5

G1基板：200 m硅

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